紫外光催化氧化设备-pg电子免费版

紫外光催化氧化设备应用于炼油厂、橡胶厂、化工厂、制药厂、污水处理厂、垃圾转运站、餐厨垃圾处理厂、饲料厂、印染厂、喷涂厂等各种有污染源恶臭气体的脱臭净化。

紫外光催化氧化设备原理

1、本产品利用特制的高能高臭氧uv紫外线光束照射恶臭气体，裂解恶臭气体如：氨、*胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物h2s、voc类，苯、甲苯、二甲苯的分子链结构，使有机或无机高分子恶臭化合物分子链，在高能紫外线光束照射下，降解转变成低分子化合物，如co2、h2o等。

2、利用高能高臭氧uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。uv＋o2→o-o＊(活性氧)oo2→o3(臭氧),*臭氧对有机物具有*的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有*的清除效果。

特点
.1 高效除恶臭：能高效去除挥发性有机物（voc）、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，净化、脱臭效率高可达99%以上，净化、脱臭效果大大超过国家1993年颁布的恶臭污染物排放标准（gb14554-93）．
4.2 无需添加任何物质：只需要设置相应的排风管道和排风动力，使工业废气通过本设备进行分解净化，无需添加任何物质参与化学反应。，
4.3 适应性强：可适应高浓度，大气量，不同工业废气物质的净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。
4.4 运行成本低：本设备无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，（每处理1000立方米/小时，仅耗电约0.2度电能），设备风阻极低＜50pa,可节约大量排风动力能耗。
4.5 无需预处理：工业废气无需进行特殊的预处理，如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30℃－95℃之间，湿度在30%－98%、ph值在3-11之间均可正常工作。